改正意匠法が4月1日から施行されます
昨年5月に公布された「特許法等の一部を改正する法律」により、特許法、意匠法、商標法が改正されましたが、その中で、意匠法が最も大きな改正を受けました。改正意匠法は4月1日から施行されます。改正された内容は以下のとおりです。
1. 保護対象の拡充
物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインが、新たに意匠法の保護対象となりました。
例えば、クラウド上に保存され、ネットワークを通じて提供される画像や、道路やビルの壁面に投影される画像も保護されるようになります。
また、従来、建築物は、同じものが或る程度の量生産されるプレハブ住宅のみが保護されていましたが、そうではない建築物の外観や内装デザインも保護されることになります。
2. 関連意匠制度の見直し
関連意匠制度というのは、自分の出願した意匠又は自分の登録意匠(本意匠)に類似する意匠の登録を認める制度です。
従来は、本意匠の登録の公表日まで（通常、8か月程度）しか出願できませんでしたが、改正後は本意匠の出願日から10年以内まで出願できることになります。
また、関連意匠にのみ類似する意匠の登録も認められるようになります。つまり、連鎖的に類似する意匠を次々と出願することができます。
一貫したコンセプトに基づき開発されたデザインを保護可能とするため、という理由です。
3. 意匠権の存続期間の変更
従来、「登録日から」20年でしたが、改正後は「出願日から」25年となります。通常、出願から登録までの期間は1年程度ですので、ほとんどの場合、権利期間が延びることになります。
国際的な潮流に合わせたものです。
4. 意匠登録出願手続の簡素化
(1) 複数の意匠の一括出願が認められます。
従来は、所定の組物に該当する場合のみ、複数の意匠の一括出願が認められていました。
(2) 物品の区分が廃止されました。
従来は政令に定められた「物品の区分」に沿った書き方が求められましたが、改正後は物品の名称を柔軟に記載することができるようになります。
5. 間接侵害規定の拡充
取り締まりを回避する目的で、侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為も取り締まりの対象となります。
詳しくは、特許庁のサイト「特許法等の一部を改正する法律（令和元年5月17日法律第3号）」（https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r010517.html）
をご覧ください。